A system for monitoring the spatial and intensity distribution on CCD patterns applied to in situ characterization

M. Carpentieri, J. Silveira, R. Giannetti

17th IMEKO World Congress on Metrology in the 3rd Millennium, Dubrovnik (Croacia). 22-27 junio 2003

Resumen:

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Fecha de publicación: 2003-06-22.

Cita:
M. Carpentieri, J. Silveira, R. Giannetti, A system for monitoring the spatial and intensity distribution on CCD patterns applied to in situ characterization, 17th IMEKO World Congress on Metrology in the 3rd Millennium, Dubrovnik (Croacia). 22-27 junio 2003.

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